电弧蒸发镀膜
在高真空下通过两导电材料制成的电极之间产生电弧放电,利用电弧高温使电极材料蒸发。电弧源的形式有交流电弧放电、直流电弧放电和电子轰击电弧放电等形式。
优点薄膜纯度高造价低适用于具有一定导电性的难熔金属、石墨等
缺点
会飞溅出微米级的靶材料颗粒,影响薄膜质量
利用高频电磁场感应加热,使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。
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感应加热式蒸发镀膜
利用高频电磁场感应加热,使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。
优点蒸发速率大,金属镀钛加工报价,可比电阻蒸发源大10倍左右 蒸发源的温度稳定,周口金属镀钛加工,不易产生飞溅现象坩埚温度较低,坩埚材料对膜导污染较少缺点蒸发装置必须屏蔽造**、设备复杂
在真空中,高能粒子轰击材料表面,金属镀钛加工价格,使其原子获得足够的能量而逸出表面,金属镀钛加工哪里有,到达衬底凝结成膜的技术。
与真发镀膜相比,溅射镀膜适用于所有(包括高熔点)材料,具有附着力强、成分可控、易于规模化生产等优点。
但其工作气压低于蒸发镀膜,因此膜层的含气量和孔隙率大于蒸发镀膜。
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在靶材和衬底之间加上一个直流高压,较板间的气体(一般为Ar2)电离,高速带电离子轰击靶材表面的溅射镀膜技术。要保持自持放电,在两较板间距为数厘米的正常溅射间距下,放电气压一般高达10帕,这对溅射效率和薄膜质量都是不利的。因此,直流溅射多采用非自持放电,也就是加入热电子发射较和辅助阳极的四较溅射,可使溅射在10-1~10-2帕的低气压下进行。
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